Your cart is currently empty!
Imec optimistisch over haalbaarheid 5-nanometerchips
Imec heeft er vertrouwen in dat 5-nanometerchips, oftewel de tweede generatie euv-chips, technisch en economisch haalbaar zijn. Op de SPIE Advanced Lithography Conference, deze week in San Jose, presenteerde het instituut de vooruitgang die het het afgelopen jaar heeft geboekt. Op basis daarvan is de verwachting dat zelfs de moeilijkste N5-lagen met één belichtingsstap zijn te patroneren.
Logicfabrikanten Globalfoundries, Samsung en TSMC zijn momenteel hard bezig om de productie van 7-nanometerchips voor te bereiden. Als alles goed gaat, moet die volgend jaar beginnen. Zo is er bijvoorbeeld nog steeds geen witte rook voor de beschikbaarheid van ASML’s euv-scanners. Het doel is minimaal negentig procent uptime, een belangrijke parameter voor de kosteneffectiviteit van euv-lithografie.
Imec kijkt een ic-generatie verder, waarvoor de kleinste structuren zo uitdagend zijn dat velen dachten dat multipatterning alweer van stal moest worden gehaald. Door co-optimalisatie van fotolak, maskers, etstechnieken en belichtingsparameters zien de Leuvenaren toch mogelijkheden om het met één belichting per laag voor elkaar te krijgen.