Litho met elektronenbundel bereikt nanometerresolutie

Onderzoekers van Brookhaven National Laboratory hebben de resolutielimiet van elektronenbundellithografie (ebl) opgerekt. Zij tekenden in een polymeer structuren uit van een nanometer groot en elf nanometer uit elkaar. Het ontstane patroon konden zij vervolgens overzetten op metaal of een halfgeleider.

De maximale resolutie van doorsnee ebl-instrumenten is doorgaans tien tot twintig nanometer. Het op maat gemaakte apparaat van Brookhaven kon al beter, maar dankzij een speciaal ontworpen patroongenerator werden de grenzen nog verder verlegd.

Een opmerkelijke observatie in de studie is dat de elektronenbundel kleinere structuren kan genereren dan de grootte van de wanordelijke balletjes waarin een het polymeer zich op een oppervlak oprolt. De maximale resolutie lijkt eerder bepaald te worden door de grootte van één monomeer (schakel).