Molecular Imprints lanceert ‘EUV-concurrent’

Het Texaanse Molecular Imprints heeft een nieuwe tool voor nano-imprintlithografie (NIL) op de markt gezet. De Imprio 300 is sneller dan zijn voorganger de Imprio 250 en heeft bovendien een betere overlay en haalt een hogere resolutie. CEO Mark Melliar-Smith herhaalde zijn uitspraken van vorige maand dat NIL hiermee een flinke stap heeft gezet om te voldoen aan de vereisten van CMos-productietechnologie.

De Imprio 300 heeft een doorvoersnelheid van vier wafers per uur. Dat is fors lager dan conventionele lithografietools, waarvan de meest moderne ruim 150 wafers per uur halen. ’Het is niet genoeg‘, erkende Melliar-Smith, ’maar elke verbetering in de doorvoer verlaagt de cost of ownership.‘ NIL-machines zijn aanzienlijk goedkoper in aanschaf en operationele kosten dan wafersteppers en –scanners, hetgeen de lage doorvoersnelheid tot op zekere hoogte acceptabel maakt. Volgens Melliar-Smith mikt Molecular Imprints op 20 wafers per uur.

De Amerikanen verbeterden ook een zwak punt van NIL, dat wil zeggen de overlay. Dat is de verschuiving van een laag ten opzichte de vorige, gewoonlijk uitgedrukt in nanometers. Hoe kleiner de afgebeelde structuren, hoe lager het overlaybudget. Melliar-Smith: ’Een select groepje klanten kan uit de voeten met een overlay van 15 nanometer bij 30-nanometerstructuren. In de praktijk is die 15 echter het absolute maximum.‘ Voor mainstream chipproductie zijn enkele nanometers overlay al veel.