Nieuw type fotolak pakt defecten in 5-nanometerchips aan

Het was hét onderwerp op de SPIE Advanced Lithography Conference afgelopen februari: hoe krijgen we 5-nanometerchips foutvrij (zie ook het artikel over de SPIE dit jaar)? Duidelijk is dat meer fotonen op de wafer het probleem zal verminderen, maar waarschijnlijk niet helemaal gaat verhelpen. De dimensies van chipstructuren zijn inmiddels zo gering dat niet-uniforme distributies in materialen en chemische processen roet in het eten gooien.

Met name in de fotolak speelt dat op. In de tegenwoordig veelgebruikte chemically amplified resists (car) maakt een foton een zuur molecuul vrij, dat de decompositie van een polymeer katalyseert. Typisch gaat het zuurdeeltje honderd tot duizend reacties mee voordat het wordt gedeactiveerd. Dat gebeurt meestal als het op een speciaal daartoe toegevoegde verbinding stuit, de quencher. In de etsstap daarna worden de brokstukken weggewassen, waardoor het bedoelde patroon in het achterblijvende polymeer verschijnt.