Paul van Gerven
29 June 2017

Het Japanse Nuflare en het Zwitserse Paul Scherrer Institute werken aan een zogenaamde actinische euv-maskerinspectietool, een machine waarmee euv-maskers met 13,5-nanometerlicht op fouten kunnen worden doorgelicht. Dat meldt Bacus News, een Spie-nieuwsbrief over fotomaskertechnologie. Nu is de industrie nog aangewezen op optische tools, maar zij zou veel liever actinisch inspecteren. Vermoedelijk kunnen daarmee meer fouten worden opgespoord.

Nuflare, maker van maskerinspectietools, heeft de handschoen opgepakt. Bij het Paul Scherrer Institute heeft het een prototype geïnstalleerd. Deze locatie is onder meer gekozen vanwege de synchrotronlichtbron die daar aanwezig is. In de inspectietool wordt coherent synchrotonlicht over het masker geleid, verstrooid en uit het verstrooiingspatroon worden eventuele defecten gedetecteerd.

Op dit moment kost het zeven uur om een masker volledig te inspecteren – te langzaam voor industriële doeleinden. De partners willen hier nog stappen in maken, net als in de gevoeligheid en de resolutie.