Paul van Gerven
7 October 2013

ASML en Imec starten op de Imec-campus in Leuven het Advanced Patterning Center (APC), een onderzoekscentrum dat zich richt op de ontwikkeling van geavanceerde lithografieprocessen in relatie met andere IC-productiestappen. Deze geïntegreerde benadering is noodzakelijk om de complexiteit van de komende chipgeneraties (tien nanometer en kleiner) het hoofd te bieden. Het APC zal op geproduceerde transistorstructuren de interacties tussen alle stappen van het lithografieproces analyseren en vervolgens de materialen en het chipontwerp optimaliseren en verfijnen. Er komen naar verwachting honderd ingenieurs te werken.