Paul van Gerven
1 March

ASML is lid geworden van het Ebeam Initiative, een forum waar halfgeleiderbedrijven en hun toeleveranciers informatie uitwisselen over – met name – maskerfabricage met e-beam-technologie. ‘ASML beschikt over aanzienlijke expertise zowel in modellering en simulatie van lithografische processen als in e-beam-metrologie en -inspectie. Als zodanig kan het onze leden waardevolle nieuwe perspectieven overleggen’, stelt ceo Aki Fujimura van het Japanse simulatiebedrijf D2S, dat het Ebeam Initiative coördineert.

Foto: Toppan Photomasks

E-beam-lithografie en chipproductie zijn geen goede match, vindt ASML. Het bedrijf heeft er echter wel belang bij dat chiptechnologie vooruitgang blijft maken zonder dat de kosten exploderen. Gezien de stijgende complexiteit van maskers en de positie van ASML’s machines in het ic-productieproces is het niet onlogisch dat ASML wil bijdragen aan de betaalbare evolutie van maskertechnologie.

Het lidmaatschap past ook in de trend dat alle aspecten van het chipfabricageproces steeds nauwer op elkaar moeten worden afgestemd. Dat vereist steeds meer samenwerking. ASML zelf heeft de afgelopen jaren een inmiddels onmisbare verzameling van hulpmiddelen ontwikkeld om het afbeeldingsproces bij te sturen. Deze zogenaamde holistische-lithografiesuite steunt op een combinatie van computationele lithografie, metrologie en geavanceerde fijnafstemmingsmogelijkheden op de scanner.