Foundry’s zouden volgend jaar tot zeven chiplagen met euv-lithografie willen patroneren, in plaats van de een of twee waarvan aanvankelijk sprake was. Dat zegt marktonderzoeker G. Dan Hutcheson van VLSI Research tegen EE Times.
ASML’s euv-scanners voldoen in principe aan de afgesproken minimale eisen voor productie, maar het houdt niet over. Ook zijn er nog onopgeloste problemen die buiten de verantwoordelijkheid van ASML vallen, zoals met de fotolak en maskers. Dat foundry’s als Samsung en TSMC toch euv uit alle macht in productie proberen in te passen, is omdat het alternatief nog onaantrekkelijker is. ‘Onze klanten worden wanhopig’, zei ASML-cto Martin van den Brink daar eind vorig jaar over in Bits&Chips.
Als het klopt wat Hutcheson zegt, blijken de problemen makkelijker op te lossen dan verwacht. ASML’s klanten zullen in dat geval meer willen doen met hun uitermate prijzige scanners. Voor ASML’s orderboek maakt dat waarschijnlijk niet veel uit. In juli stonden daar 27 machines in, bij een productiecapaciteit van 12 in 2017 en 24 in 2018.
