Intel heeft prototypes laten zien van zijn 45-nanometerprocessoren. De elektronicagigant claimt als eerste gebruik te maken van zogenaamde hoge-k-materialen en metalen gates. Beide materialen en de bijbehorende productietechnieken maakten al eerder hun opwachting, maar nog niet eerder in die combinatie en in 45 nanometer transistoren. ’Intel gaat dankzij de implementatie van hoge k en metalen gates zijn familie van Core 2- en Xeon-multicores sneller en energie-efficiënter maken‘, zegt senior fellow Mark Bohr van Intel. Deze Penryn-processoren moeten nog dit jaar in productie gaan.
Intel heeft er een handje van om technologische vorderingen op te blazen tot mijlpalen. Dit keer was het IBM die Intels feestje bedierf. Big Blue deed een persbericht de deur uit te doen waarin het Intels aanspraak op ’de grootste doorbraak in transistortechnologie sinds de late jaren zestig‘ onderuit haalt.
Vice-president Bernard Meyerson van IBM wreef in de New York Times nog wat zout in de wonden. ’Analisten die beweren dat Intel een technologieleider werd met de implementatie van hoge-k-materialen en metalen gates, zitten er naast. We hebben ervoor gekozen om deze technologie alleen te gebruiken in hoogperformante systemen.‘ IBM en partner AMD beloofden later dit jaar hun resultaten te presenteren op een conferentie.
Texas Instruments kondigde afgelopen juni al aan metalen gates in zijn 45-nanometerchips te gaan stoppen. NEC heeft materialen met een hoge k-waarde al in productie voor zijn CB-55L-platform. Ook de Charge Trap-technologie die Samsung gebruikt voor de fabricage van flashgeheugen maakt gebruik van hoge-k-materialen.
