Alexander Pil
3 February 2006

Intel wil de ontwikkeling van extreem ultraviolet (EUV)-lithografie versnellen. Kapitaalschieter Intel Capital investeert daarom in Xtreme Technologies. Deze Duitse EUV-specialist lanceerde onlangs een EUV-bron die een vermogen haalt van 800 watt. Voor massaproductie met EUV moet er rond 2010 een bron beschikbaar zijn van ongeveer 1 kW, schat Xtreme. EUV is een kandidaat voor de productie van de volgende generatie chips met details van 32 nm. Financiële details van de investering zijn niet bekendgemaakt.

Xtreme Technologies is een van de deelnemers aan More Moore. Dit driejarige lithografische samenwerkingsverband onder leiding van ASML ontving 23,25 miljoen euro aan subsidie ontving uit Brussel. Andere betrokken bedrijven zijn Carl Zeiss, Philips en Schott Lithotec. Zij krijgen ondersteuning van wetenschappelijke instellingen als CEA Leti, FOM Rijnhuizen, Fraunhofer, Imec, TNO en de TU Delft.

0623121652000
EUV-belichtingssysteem van Carl Zeiss, dat samen met Xtreme Technologies deelneemt aan het Europese lithografieplatform More Moore