CEO Paul Otellini heeft op het Intel Developer Forum deze week in San Francisco een wafer met 22-nanometer SRams getoond. De 364-MBit-chips tellen elk 2,9 miljard transistoren, samengepakt in geheugencellen van 0,092 vierkante micrometer. Daarmee hebben de geheugens de hoogste dichtheid tot nu toe. Intel gaat nu hard aan de slag om zijn 22-nanometerproces door te ontwikkelen voor processorproductie, die eind 2011 live moet gaan. Eerst aan de beurt zijn de 32-nanometer Westmere-processoren, die de Amerikanen in het vierde kwartaal op de markt brengen.
Intel gebruikt in zijn 22-nanometeproces immersielithografie met double patterning voor enkele kritieke lagen, en verwacht ook voor 15-nanometerchips double patterning te moeten gebruiken, aangevuld met triple patterning waar nodig. ’Ik wou dat we EUV voor 15 nanometer konden gebruiken, maar het ziet er niet naar uit dat het op tijd klaar is om in onze planning te passen‘, zei senior fellow Mark Bohr van Intel. Hij hoopt dat op het 11-nanometerknooppunt EUV-lithografie het werkpaard van de chipindustrie wordt.