Alexander Pil
8 juni

Marco Wieland van Mapper Lithography heeft de Martin van den Brink Award 2018 ontvangen. De uitreiking van deze systeemarchitectuurprijs vond plaats in het Evoluon in Eindhoven tijdens een galadiner als onderdeel van de Dutch Technology Week. De organisator is de Dutch Society for Precision Engineering (DSPE) met medewerking van Brainport Industries. Wieland is cto en medeoprichter van Mapper in Delft. Hij fungeert als technisch geweten bij de ontwikkeling van elektronenbundellithografie tot volwaardige aanvulling op de optische lithografie.

Om het belang van systeemarchitectuur te onderstrepen, is in 2012 de Martin van den Brink Award ingesteld op initiatief van DSPE, TNO, Brainport Industries, High Tech Systems Platform, Point-One en High Tech Campus Eindhoven. De eerste award werd datzelfde jaar uitgereikt aan Erik Loopstra, systeemarchitect bij ASML. In 2016 ging de prijs naar Jan van Eijk, voormalig cto Mechatronics bij Philips Applied Technologies en emeritus hoogleraar Advanced Mechatronics aan de TU Delft. De jury bestond uit Jos Benschop (ASML), Pieter Kappelhof (Hittech), Adrian Rankers (Mechatronics Academy), Hans Krikhaar (DSPE) en Martin van den Brink (ASML).

Marco Wieland studeerde van 1993 tot 1999 technische natuurkunde aan de TU Delft en deed zijn afstudeeropdracht in de groep van Pieter Kruit, hoogleraar in de optica van geladen deeltjes. Na zijn afstuderen richtte Wieland in 2000 samen met studiegenoot Bert Jan Kampherbeek en hoogleraar Kruit een bedrijf op, Mapper Lithography. Toen ideeën voor verbetering van de maskergebaseerde optische lithografie niet tot succesvolle uitwerking kwamen, gingen ze zich toeleggen op maskerloze elektronenbundellithografie. Deze alternatieve techniek schrijft rechtstreeks structuren op halfgeleiderwafers met behulp van tienduizenden parallelle elektronenbundels. Dat maakt de dure optiek en maskers van optische lithografie overbodig, maar kent zelf weer heel andere uitdagingen, zoals de razendsnelle besturing en magnetische afscherming van de elektronenbundels, naast bekende ‘issues’ zoals trillingsisolatie, geavanceerde metrologie en beheersing van warmtedissipatie.

Inmiddels heeft Mapper nanometernauwkeurigheid aangetoond voor zowel de positionering van de wafertafel als de besturing van de elektronenbundels en draait er een eerste alfa-machine in de cleanroom van het Franse Leti. Voor de commercialisering van de techniek zijn verdere verhoging van de waferdoorvoersnelheid en verlaging van de kostprijs aanvullende opgaven.