25 February 2009

Een kleine twintig bedrijven hebben zich verenigd in het Ebeam Initiative om een chipontwerpaanpak te promoten die bekend staat als ontwerp voor e-beam (design for e-beam, DFEB). De initiatiefnemers waarschuwen dat innovatie in chipontwerp gesmoord wordt door stijgende kosten van IC-productie, die met name op het conto komen van maskerfabricage. Chipfabrikanten richten zich daarom meer en meer op hoge volumes. In de club zijn Asic-producenten, EDA-toolmakers en machinebouwers vertegenwoordigd.

Opvallende afwezige – op het eerste gezicht – is het Delftse Mapper Lithography. Vanuit San Francisco laat medeoprichter Bert Jan Kampherbeek weten dat het Ebeam Initiative voor zijn bedrijf niet zo relevant is. Het richt zich namelijk op machines met slechts één elektronenbundel, die daardoor erg traag zijn. Door het chipontwerp aan te passen kan het iets sneller en dat is waar Ebeam zich op richt, aldus Kampherbeek. Mappers concept gaat uit van 13 duizend parallelle elektronenbundels.

CEA-Leti, waar Mapper intensief mee samenwerkt, doet wel mee aan Ebeam. De Fransen hebben een e-beammachine staan van Vistec die volgens Kampherbeek gezien moet worden als tussenstap naar Mappers e-beamlitho met hoge doorvoer. In het kader van het vorig jaar gelanceerde Imagine-programma komt er binnenkort ook een Mapper-machine bij CEA-Leti te staan.