Softwareleverancier Mentor Graphics voegt drie van zijn ontwikkelplatformen samen tot één oplossing voor het ontwerpen van IC‘s bij 45 nm en kleiner. Het gaat om Calibre, het pakket voor fysieke verificatie en design for manufacturing (DFM), het place-and-route-systeem Olympus-Soc en de tools voor design for test (DFT) en opbrengstanalyse. De toolbouwer voegt hier de technologie aan toe die het onlangs verkreeg via de overname van Ponte Solutions en de samenwerking met NXP.
De gecombineerde gereedschappen moeten het voor gebruikers makkelijker maken om de achterliggende redenen van productiefouten te achterhalen, om verborgen grenzen aan de opbrengst boven water te krijgen en om testdata uit massaproductie te analyseren. Ontwerpers kunnen de resultaten gebruiken om hun designregels te herzien.