Paul van Gerven
26 February 2008

Het Texaanse Molecular Imprints heeft een nieuwe tool voor nano-imprintlithografie (NIL) op de markt gezet. De Imprio 300 is sneller dan zijn voorganger de Imprio 250 en heeft bovendien een betere overlay en haalt een hogere resolutie. CEO Mark Melliar-Smith herhaalde zijn uitspraken van vorige maand dat NIL hiermee een flinke stap heeft gezet om te voldoen aan de vereisten van CMos-productietechnologie.

De Imprio 300 heeft een doorvoersnelheid van vier wafers per uur. Dat is fors lager dan conventionele lithografietools, waarvan de meest moderne ruim 150 wafers per uur halen. ’Het is niet genoeg‘, erkende Melliar-Smith, ’maar elke verbetering in de doorvoer verlaagt de cost of ownership.‘ NIL-machines zijn aanzienlijk goedkoper in aanschaf en operationele kosten dan wafersteppers en –scanners, hetgeen de lage doorvoersnelheid tot op zekere hoogte acceptabel maakt. Volgens Melliar-Smith mikt Molecular Imprints op 20 wafers per uur.

De Amerikanen verbeterden ook een zwak punt van NIL, dat wil zeggen de overlay. Dat is de verschuiving van een laag ten opzichte de vorige, gewoonlijk uitgedrukt in nanometers. Hoe kleiner de afgebeelde structuren, hoe lager het overlaybudget. Melliar-Smith: ’Een select groepje klanten kan uit de voeten met een overlay van 15 nanometer bij 30-nanometerstructuren. In de praktijk is die 15 echter het absolute maximum.‘ Voor mainstream chipproductie zijn enkele nanometers overlay al veel.

De beste overlayresultanten komen van Toshiba, een belangrijke steun in de rug voor Molecular Imprints. De Japanners zeggen een overlay van 10 nanometer gehaald te hebben bij features van 20 nanometer.

 advertorial 

The waves of Agile

Derk-Jan de Grood has created a rich source of knowledge for Agile coaches and leaders. With practical tips to create a learning organization that delivers quality solutions with business value. Order The waves of Agile here.

In het persbericht positioneert Molecular Imprints zijn machines nadrukkelijk als concurrenten van EUV, dat ’geplaagd wordt door technische obstakels en daarom vele malen is doorgeschoven‘. Net als EUV heeft NIL echter nog veel te bewijzen voordat het een serieuze optie wordt voor IC-fabrikanten.