18 April 2012

ASML onderhandelt over volumeorders van de NXE:3300B, de EUV-scanner voor productiedoeleinden. Dat maakte het bedrijf vandaag bekend bij de presentatie van de tweedekwartaalcijfers. Om zijn klanten in staat te stellen lithografie met 13,5-nanometerlicht in de vingers te krijgen, had het eerder al preproductiesystemen gebouwd en uitgeleverd. Deze NXE:3100-machines zijn inmiddels alle zes operationeel en hebben in totaal negenduizend wafers belicht.

Dit aantal illustreert de grootste tekortkoming die EUV-technologie nog scheidt van massaproductie: de doorvoer. ASML‘s meest geavanceerde immersiescanner, de Twinscan NXT:1950I, heeft onlangs bij een chipfabrikant een vers record van 4500 wafers per dag neergezet. De vergelijking is niet eerlijk, want tussen een vrijwel uitontwikkeld en een preproductiesysteem, maar feit blijft dat in de throughput nog een grote stap moet worden gemaakt. Deze opdracht ligt grotendeels bij Cymer en XTreme Technologies, die het vermogen van hun EUV-lichtbronnen moeten oppitten, zodat de fotolak minder lang hoeft te worden bestraald om de vereiste lichtdosis te halen.

ASML houdt vast aan zijn projectie dat in de tweede helft van dit jaar een bron beschikbaar komt die zestig plakken per uur aankan. Daar is ongeveer honderd watt voor nodig. Op dit ogenblik komt Cymer noch XTreme verder dan dertig watt praktisch bruikbaar vermogen. Vergeleken met de stand van zaken begin dit jaar is dat tien watt meer.

De eerste NXE:3300B – er waren er al elf besteld – leveren de Veldhovenaren eind dit jaar, zodat klanten hun productieproces kunnen inregelen. Met de volgende batch machines, waarover de onderhandelingen dus zijn gestart, begint in 2013 het echte werk.