19 February 2019
Onderzoeksinstituut Arcnl heeft Roland Bliem aangesteld als groepsleider van de nieuwe Materials and Surface Science for EUV Lithography-groep. De Oostenrijker en zijn medewerkers gaan de processen bestuderen die zich voltrekken op oppervlakken in een euv-lithografieomgeving en materialen ontwikkelen die de performance en stabiliteit van euv-lithografie verbeteren, zoals beschermende coatings. Bliem heeft een sterke achtergrond in oppervlakteonderzoek. Tijdens zijn promotietraject bestudeerde hij ijzeroxides aan de Universiteit van Wenen en bij MIT werkte hij aan oxideoppervlakken voor energietechnologie.
