Samsung ziet geen grote obstakels meer voor introductie van euv-lithografie in een productieomgeving. In een vorige week gepresenteerde roadmap-update bevestigt de foundry zijn zogenaamde 7LPP-proces (7 nanometer low power plus) volgend jaar op te starten. Een onbekend aantal chiplagen zal dan met de flink vertraagde lithografische techniek worden gepatroneerd.
Dit voornemen maakte Samsung vorig jaar al bekend en blijkbaar is er geen reden om de planning aan te passen. ‘Euv-productie is niet langer een concept-item op onze roadmap’, citeert EE Times een woordvoerder van het Koreaanse bedrijf.
Toch lijkt Samsung een vangnet te hebben opgehangen. Waar het oorspronkelijk direct van 10LPP naar 7LPPP nanometer wilde springen, blijkt er nu een 8-nanometervariant te zijn ingevoegd (8LPP). Deze afgeleide van het huidige 10-nanometerproces haalt het maximale uit immersielithografie.
Deze constructie doet denken aan hoe TSMC de overstap wil maken. De Taiwanezen introduceren volgend jaar een 7-nanometer-euv-proces na eerst een 7-nanometer-immersievariant op de markt te hebben gebracht.
Device lifecycle management for fleets of IoT devices
Microchip gives insight on device management, what exactly is it, how to implement it and how to roll over the device management during the roll out phase when the products are in the field. Read more. .
De derde grote foundry, Globalfoundries, is voornemens in 2019 met euv aan de slag te gaan.