De investeringsarm van Samsung en het investeringsfonds Innovation Industries steken samen tien miljoen euro in Nearfield Instruments. Deze Delftse TNO-spin-off heeft een atomic force microscoop (afm) ontwikkeld die tot duizend keer sneller is dan conventionele uitvoeringen. Nearfield wil deze technologie inzetten als metrologische oplossing in de halfgeleiderindustrie.
Een afm produceert een reliëftekening van een oppervlak door het met een naald af te tasten. Dankzij de atomaire resolutie is de techniek zeer geschikt om de meest moderne ic’s in beeld te brengen, iets waar dringend behoefte aan is nu enkele misplaatste atomen al grote consequenties kunnen hebben voor het functioneren van transistoren. Voor industriële toepassingen werd de afm echter als te langzaam beschouwd.
Metrologische oplossingen in de halfgeleiderindustrie waren vaak optisch van aard, maar voor de meest geavanceerde chips zijn die inmiddels ontoereikend. ASML kocht vorig jaar Hermes Microvision, een Taiwanese fabrikant van e-beam-inspectietools.