Sematech vindt lage-k-materiaal voor 45 nm

Sematech heeft een materiaal gevonden met een k-waarde die geschikt is voor toepassing in 45 nm-chipprocessen. De effectieve k-waarde van het dubbellaagse metaal bedraagt 2,5 en voldoet daarmee aan de eisen van de halfgeleiderroadmap voor 2009-2010. Eerste tests wijzen uit dat het materiaal betrouwbaar is. ’Er zijn maar weinig materialen die het eind van de screening halen‘, zegt interconnectspecialist Sitaram Arkalgud van Sematech. ’Meestal maar een of twee per procesgeneratie.‘ De onderzoekers gaan nu op jacht naar k-waardes van 2,1 en lager voor latere productieprocessen.