Pieter Edelman
6 October 2005

Toshiba heeft een licentie genomen op de gepatenteerde scattering bar-techniek van ASML Masktools. Met deze technologie is het mogelijk meer bruikbare circuits uit een siliciumplak te halen. ’We zijn verheugd met wat deze overeenkomst laat zien in Toshiba‘s thuisland Japan: een groeiende behoefte aan producten, technologie en diensten van ASML‘, vertelde Eric Meurice, directeur van het Veldhovense bedrijf.

De scattering bar-technologie verhoogt focusdiepte, uniformiteit en andere lithografische eigenschappen. Hitachi, dat als verkoper voor ASML in Japan optreedt, sloot de deal. Eerder omarmde Intel de Veldhovense maskertechnologie.