Paul van Gerven
18 September 2015

TSMC begint eind dit jaar met 10-nanometer- en in 2017 met 7-nanometerproductie, beide vooralsnog zonder gebruik te maken van euv-lithografie. Dat heeft de foundry bekendgemaakt op een roadmapevent in de Verenigde Staten, waarbij EE Times aanwezig was.

De Taiwanezen meldden weer een stukje te zijn opgeschoten met euv: ze hebben nu een of meer machines draaien met een lichtbron van negentig watt. Bij de laatst bekende update was er sprak van tachtig watt. TSMC verwacht eind dit jaar 125 wafers per uur te kunnen verwerken. De voortgang is kennelijk onvoldoende om euv direct bij aanvang van 7-nanometerproductie in te zetten. TSMC moet daarom terugvallen op triple patterning.

Met het bekendgemaakte productieschema lijken de Taiwanezen Intel in te halen, dat onlangs aankondigde 10-nanometerproductie een jaar uit te stellen naar 2017. Daar is volgens analist Mike Demler van de Linley Group echter geen sprake van. Tegen EE Times zei hij dat TSMC’s 10-nanometerchips het meest vergelijkbaar zijn met Intels 14-nanometerchips, die eerder dit jaar al in productie zijn gegaan. Intel behoudt daardoor grosso modo een jaar voorsprong op TSMC, aldus Demler.

Marktonderzoeker Handel Jones van IBS speculeert in het EE Times-artikel dat Apple de 10-nanometerchips in groten getale zal afnemen voor de volgende generatie Iphones. Fpga-maker Xilinx, normaal gesproken een van de eerste afnemers bij TSMC, heeft gezegd het 10-nanometerknooppunt over te slaan.

 advertorial 

Free webinar ‘Modernizing your code base with C++20’

As many production tool chains now adopt C++20 features, the potential this brings is unlocked. What advantages can recent versions offer to your code base? In this webinar we’ll look at the great improvements C++ has gone through and how features like concepts and ranges can transform your code. Register for 2 February, 4PM.