Na een fout in de EUV-lichtbron is ASML’s eerste NXE:3300B-scanner in het veld al meer dan drie weken offline. Volgens de eigenaar van de machine, TSMC, ging er iets mis met de uitlijning van de laser in de bron, waardoor de collector beschadigd raakte. ASML gaat het defect repareren.
TSMC vertelde over het probleem op de 2014 Advanced Lithography-conferentie, deze week in San Jose. De Taiwanese foundry was de eerste die de semiproductietool in gebruik nam. Bij twee andere klanten – naar alle waarschijnlijkheid Intel en Samsung – wordt de NXE:3300B momenteel geïnstalleerd.
TSMC ziet in het incident vooralsnog geen reden zijn roadmap aan te passen: het wil EUV nog altijd op het 10-nanometerknooppunt inschuiven. TSMC is vorige maand begonnen met 20-nanometerproductie. Daarna volgen 16-nanometerchips, die overigens eigenlijk Finfet-versies van de 20-nanometerchips zijn.
Update: ASML meldt dat het probleem zich voordeed tijdens een geplande upgrade van de lichtbron naar een hoger vermogen. De machine is langer offline geweest dan verwacht. Het incident heeft geen invloed op ASML’s EUV-roadmap.
Test less, verify Moore
At the Bits&Chips Event 2023 on 12 October 2023, Phillipa Hopcroft from Crocotec and Ivo ter Horst from ASML will kick off with a keynote speech on transforming how lithography machine software is built. Make sure to keep an eye on the website for program updates and save the date!