25 February 2014

Na een fout in de EUV-lichtbron is ASML’s eerste NXE:3300B-scanner in het veld al meer dan drie weken offline. Volgens de eigenaar van de machine, TSMC, ging er iets mis met de uitlijning van de laser in de bron, waardoor de collector beschadigd raakte. ASML gaat het defect repareren.

TSMC vertelde over het probleem op de 2014 Advanced Lithography-conferentie, deze week in San Jose. De Taiwanese foundry was de eerste die de semiproductietool in gebruik nam. Bij twee andere klanten – naar alle waarschijnlijkheid Intel en Samsung – wordt de NXE:3300B momenteel geïnstalleerd.

TSMC ziet in het incident vooralsnog geen reden zijn roadmap aan te passen: het wil EUV nog altijd op het 10-nanometerknooppunt inschuiven. TSMC is vorige maand begonnen met 20-nanometerproductie. Daarna volgen 16-nanometerchips, die overigens eigenlijk Finfet-versies van de 20-nanometerchips zijn.

Update: ASML meldt dat het probleem zich voordeed tijdens een geplande upgrade van de lichtbron naar een hoger vermogen. De machine is langer offline geweest dan verwacht. Het incident heeft geen invloed op ASML’s EUV-roadmap.