Researchinstituut Arcnl bouwt twee onderzoeksgroepen af omdat cofinancier ASML ze niet relevant genoeg vindt, bericht NRC Handelsblad. Het betreft de groepen van Fred Brouwer en Sonia Castellanos, die beide onderzoek doen naar euv-fotolak. Volgens Castellanos zou het besluit hebben geleid tot een ‘gevoel van onveiligheid’ onder medewerkers. NRC sprak echter ook twee collega’s die wel genoeg speelruimte ervaren om interessante én industrieel relevante wetenschap te bedrijven bij Arcnl.
Naast de bemoeienis van ASML met de onderzoekslijn zouden er ook communicatieproblemen spelen. ‘Arcnl-onderzoekers hebben moeite met de manier van discussiëren van ASML-medewerkers, met name binnen het managementteam’, aldus het dagblad.
Arcnl of het Advanced Research Center for Nanolithography ging in 2014 officieel van start. ASML neemt veertig procent van het jaarlijkse budget van honderd miljoen euro voor zijn rekening; het resterende deel is publiek gefinancierd. De bijdrage van ASML is tien jaar gegarandeerd, met de intentie om ook daarna door te gaan.
In een interview met Bits&Chips naar aanleiding van de oprichting erkende vicepresident research Bart Noordam van ASML dat de partijen met de samenwerking een spanningsveld betraden. ‘Je wilt niet dat bedrijven de academische vrijheid platslaan, maar je wilt ook niet dat academici met de rug naar de samenleving staan’, aldus Noordam. ASML zou daarom beperkte invloed op de koers gaan uitoefenen.
Arcnl is dit jaar internationaal geëvalueerd. De visitatiecommissie achtte het instituut nog te jong voor een volledig oordeel, maar zij bestempelde de wetenschappelijke onderzoekskwaliteit voorlopig als ‘zeer goed’ en de maatschappelijke relevantie als ‘excellent’.