Technieuws

Ook Cornell legt grafeen op wafers

Reading time: 1 minute

Opnieuw hebben onderzoekers een methode gevonden om grafeen te fabriceren en het te verwerken op een manier die de compatibel is met bestaande processen. Chemici van Cornell University brachten een laagje koper aan op een siliciumplak, lieten daarop grafeen groeien en wasten daarna het koper er weer onder vandaan. ’Daarna kun je elke dunnefilmtechniek naar keuze toepassen‘, aldus onderzoeksleider Jiwoong Park van Cornell. Hij werkt nu op wafers van 4 inch.

Eerder deze week repte Fujitsu van een vergelijkbare techniek. Net als de Japanners fabriceerden de Amerikanen transistoren van hun grafeen, die naar eigen zeggen uitstekend presteerden.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for only €15 and enjoy all the benefits.

Login

Related content