Advanced Lithography-roundup: 7 nm, 5 nm en high-na-euv

Elk jaar in februari tijgen lithografen naar de SPIE Advanced Lithography Conference om de voortgang en uitdagingen op hun vakgebied te bespreken. En elk jaar wordt het daar spannender, want het is steeds moeilijker om het hart van technologische vooruitgang te laten kloppen.

Afgaande op de berichten uit Californië is hartbewaking echter niet aan de orde voor de wet van Moore. Dankzij euv-lithografie, die na veel uitstel eindelijk productierijp begint te worden, nemen de kosten per transistor zelfs weer af, claimen chipmakers. Zij zien zichzelf tot ver in de jaren twintig krimpslagen blijven maken en dringen er daarom bij ASML op aan om een nieuwe generatie euv-scanners te ontwikkelen.