Imec komt naar Veldhoven

ASML en Imec starten een gezamenlijk onderzoekscentrum in Veldhoven voor de ontwikkeling van high-NA-euv-lithografie. High-NA-systemen projecteren euv-licht vanuit een bredere invalshoek op de wafer, waardoor ze nog fijnere patronen kunnen afbeelden. Onlangs maakte ASML bekend zijn euv-roadmap inclusief high-NA te versnellen.

Het nieuwe lab maakt onderdeel uit van een verdere intensivering van de samenwerking tussen ASML en Imec, die al bijna dertig jaar bestaat. ASML installeert in de loop van 2019 een NXE:3300B-scanner bij het Advanced Patterning Center in Leuven, waar de beide partners sinds 2014 geavanceerde lithografische processen bestuderen in relatie tot andere ic-processtappen.